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气体制冷机在光刻工艺中的应用：准确控温助力芯片制造
32播放 · 2025-04-03 16:31:57 原创
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冠亚恒温气体制冷机采用全密闭循环技术，凭借±0.05℃的准确控温能力，为光刻机提供稳定的高低温环境，确保曝光过程中光学系统、光刻胶及激光光源的温度波动被严格限制。通过PID算法实现高精度控温，响应速度迅速，确保光刻胶稳定性和曝光质量，避免线宽粗糙度超标，满足EUV光刻对水质的严苛要求。

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